大学实验中霍尔系数的具体数值 取决于实验材料、实验条件以及测量方法。以下是一些关键点和参考数据：

半导体霍尔系数

半导体的霍尔系数通常在 $10^{-3}$ 到 $10^{-9}$ 平方厘米/库仑之间。

在某些实验中，半导体霍尔系数可能被测量为70+ m^3/C，这可能是由于实验条件或材料特性的差异。

金属霍尔系数

对于金属，霍尔系数通常为正值，范围在 $10^{-5}$ 到 $10^{-11}$ 平方厘米/库仑。

实验条件的影响

霍尔系数会受到温度、磁场强度和材料纯度等因素的影响。

测量方法

霍尔系数的测量通常使用霍尔电压（Uh）、霍尔样品尺寸（d）、通过霍尔样品的电流（Is）和外磁场（B）等参数，公式为 $Rh = frac{Uhd}{IsB}$。

综上所述，大学实验中霍尔系数的具体数值需要根据实验材料、实验条件以及测量方法来确定。一般来说，半导体的霍尔系数在 $10^{-3}$ 到 $10^{-9}$ 平方厘米/库仑之间，而金属的霍尔系数则在 $10^{-5}$ 到 $10^{-11}$ 平方厘米/库仑之间。实验结果可能会受到多种因素的影响，因此建议在实验报告中详细记录实验条件和方法，以便他人复现和验证实验结果。